MURO Maiko について
Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN について
HARADA Makoto について
Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN について
OKADA Tetsuo について
Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN について
HASEGAWA Takeshi について
Kyoto Univ., Kyoto, JPN について
Journal of Physical Chemistry B について
カルボン酸塩 について
Langmuir膜 について
断面 について
転位反応 について
表面再構成 について
配位数 について
分子構造 について
配位結合 について
金属イオン について
時間依存性 について
経時変化 について
均一性 について
赤外反射吸収分光法 について
偏光分光法 について
信号変調 について
XAFS について
X線構造解析 について
安定構造 について
疎水性 について
結晶化 について
親水性 について
水和 について
イオン間相互作用 について
カルボキシ基 について
カルボキシル基 について
X線解析 について
X線吸収微細構造 について
スペクトル変調 について
亜鉛イオン について
再配列反応 について
配位構造 について
表面再配列 について
分子配列 について
有機化合物の薄膜 について
液-気界面 について
ステアリン酸亜鉛 について
偏光変調 について
赤外反射吸収分光法 について
X線吸収微細構造 について
薄膜 について
調製法 について
ステアリン酸亜鉛 について
Langmuir膜 について
分子 について
再配列 について