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J-GLOBAL ID：201202207803605492   整理番号：12A0385828

誘導結合プラズマ放電における容量性-誘導性モード遷移を用いたプロパンチオールプラズマポリマにおける硫黄含有量の変質

Altering the sulfur content in the propanethiol plasma polymers using the capacitive-to-inductive mode transition in inductively coupled plasma discharge

著者 (6件)： THIRY Damien (Chimie des Interactions Plasma Surface (ChIPS), CIRMAP, Univ. de Mons, 20 Place du Parc, B-7000 Mons, BEL) ,  BRITUN Nikolay (Chimie des Interactions Plasma Surface (ChIPS), CIRMAP, Univ. de Mons, 20 Place du Parc, B-7000 Mons, BEL) ,  KONSTANTINIDIS Stephanos (Chimie des Interactions Plasma Surface (ChIPS), CIRMAP, Univ. de Mons, 20 Place du Parc, B-7000 Mons, BEL) ,  DAUCHOT Jean-pierre (Chimie des Interactions Plasma Surface (ChIPS), CIRMAP, Univ. de Mons, 20 Place du Parc, B-7000 Mons, BEL) ,  DENIS Laurent (Chimie des Interactions Plasma Surface (ChIPS), CIRMAP, Univ. de Mons, 20 Place du Parc, B-7000 Mons, BEL) ,  SNYDERS Rony (Chimie des Interactions Plasma Surface (ChIPS), CIRMAP, Univ. de Mons, 20 Place du Parc, B-7000 Mons, BEL)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 100  号： 7  ページ： 071604  発行年： 2012年02月13日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プロパンチオールプラズマポリマ膜特性に及ぼす容量性(E)から誘導性(H)モードへの遷移の効果を発光分光とX線光電子分光により調べた。Eモードは遅い堆積速度と膜中の高い硫黄含有量(Hモードの約20%に対し約40%)によって特徴づけられる。エージング後の,非束縛硫黄系分子(例えば,H₂S)の脱着に帰する炭素含有量に対する硫黄の大きな減少(約0.75から0.13まで)はEモードでの低電力において検知された。膜特性の変質へのE-H遷移の重要性を強調した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *高分子膜 ,  *プラズマ重合 ,  *誘導結合プラズマ ,  RF放電 ,  堆積速度 ,  硫黄 ,  含有量 ,  化学組成 ,  脱着 ,  変質 ,  発光スペクトル ,  X線光電子スペクトル ,  チオール ,  脂肪族化合物
準シソーラス用語： 誘導結合放電 ,  容量結合放電

分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  単独重合  (CG04020S)

タイトルに関連する用語 (7件)： 誘導結合プラズマ ,  放電 ,  容量性 ,  モード遷移 ,  硫黄 ,  含有量 ,  変質