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J-GLOBAL ID：201202208455138652   整理番号：12A1306332

イオンミリングにおけるイオン照射支援による単磁区の大面積パターニング

Large area patterning of single magnetic domains with assistance of ion irradiation in ion milling

著者 (5件)： SUN Zhenzhong (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Center for Materials for Information Technol. (MINT), The Univ. of ...) ,  LI Dawen (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Center for Materials for Information Technol. (MINT), The Univ. of ...) ,  NATARAJARATHINAM Anusha (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Center for Materials for Information Technol. (MINT), The Univ. of ...) ,  SU Hao (Dep. of Metallurgical and Materials Engineering, Center for Materials for Information Technol. (MINT), The Univ. of ...) ,  GUPTA Subhadra (Dep. of Metallurgical and Materials Engineering, Center for Materials for Information Technol. (MINT), The Univ. of ...)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 30  号： 3  ページ： 031803-031803-6  発行年： 2012年05月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 磁性薄膜のイオンミリングにおける顕著なイオン照射効果を実証した。ビットパターン化媒質の作製において,イオン照射はイオンミリングによる磁性材料の完全除去の前にビットアイランドの隔離を容易にする。ブロック共重合体リソグラフィと組み合わせて,一軸垂直異方性を有するStoner-Wohlfarth様単磁区に似たサブ20nmCoPtドットを実現した。X線回折はイオン照射による磁性薄膜の劣化は結晶構造損傷に関係していることを実証した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *磁性薄膜 ,  *イオンエッチング ,  *イオン照射 ,  *磁区 ,  *パターン形成 ,  ビット ,  リソグラフィー ,  垂直磁気異方性 ,  ナノ構造 ,  *コバルト合金 ,  白金含有合金 ,  金属間化合物 ,  記憶媒体 ,  *垂直磁気記録
準シソーラス用語： 単磁区 ,  ブロック共重合体リソグラフィー ,  ナノドット

分類 (4件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D) ,  磁性材料  (NA04040H) ,  電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (6件)： イオンミリング ,  イオン照射 ,  支援 ,  単磁区 ,  大面積 ,  パターニング