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J-GLOBAL ID：201202209492673637   整理番号：12A1723814

超微細加工用電子線ポリマーレジストの開発と評価

著者 (8件)： 大久保勝也 (熊本大 大学院) ,  角田朋生 (熊本大 大学院) ,  國武雅司 (熊本大 大学院) ,  大谷真琴 (山大 院) ,  東幸治 (山大 院) ,  浅田祐法 (山大 院) ,  星野亮一 (グルーオンラボ) ,  吉広幸治 (グルーオンラボ)
資料名： ポリマー材料フォーラム講演予稿集
巻： 21st  ページ： 38  発行年： 2012年10月17日 
JST資料番号： L2062A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電子線レジスト ,  *電子ビームリソグラフィー ,  高感度 ,  高分解能 ,  共重合体 ,  分散度 ,  *パラメータ推定 ,  *機能性高分子
準シソーラス用語： ラインエッジラフネス ,  組成依存性 ,  超微細加工 ,  分子量依存性

分類 (4件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  アクリル樹脂  (YH07110K) ,  放射線による構造と物性の変化一般  (BK16121W)

物質索引 (2件)： α-クロロアクリル酸メチル ,  α-メチルスチレン

タイトルに関連する用語 (6件)： 微細加工 ,  電子線 ,  ポリマー ,  レジスト ,  開発 ,  評価