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J-GLOBAL ID：201202209548815804   整理番号：12A0214781

マグネトロンスパッタ蒸着したTa,Nb及びTa-Nb合金上の陽極酸化膜の固体特性の評価

Characterization of the Solid State Properties of Anodic Oxides on Magnetron Sputtered Ta, Nb and Ta-Nb Alloys

著者 (5件)： DI FRANCO F. (Universita di Palermo, Palermo, ITA) ,  ZAMPARDI G. (Universita di Palermo, Palermo, ITA) ,  SANTAMARIA M. (Universita di Palermo, Palermo, ITA) ,  DI QUARTO F. (Universita di Palermo, Palermo, ITA) ,  HABAZAKI H. (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 159  号： 1  ページ： C33-C39  発行年： 2012年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ta₂O₅,Nb₂O₅及びTa-Nb含有酸化物を,マグネトロンスパッタ蒸着したTa,Nb及びいろいろな組成のTa-Nb合金のアノード酸化により得,光電流分光(PCS)とインピーダンス測定により特性評価した。アノード酸化Ta₂O₅とNb₂O₅に対するバンドギャップ値は,それぞれ4.1eV及び3.4eVで混合酸化物に対しては,Ta含有量とともに単調に増加する中間値が推測された。見積もられたバンドギャップ値は構成酸化物の電気陰性度の差の二乗へのE_gの線形依存性と一致していた。広い範囲の電極電位及び交流信号の幾つかの周波数に対して,全調査酸化物で記録された微分容量曲線を非晶質半導体のSchottky障壁に基づいて解釈し,これらの酸化膜の誘電率を決定できた。見積もり値に従い,εは混合酸化物中のパートナーカチオンの1つの原子分率にほとんど線形に依存した。この研究で報告された実験結果は,正しく合金組成を選択すれば,高k誘電体材料の特性を決定する重要パラメータである酸化物のバンドギャップ値と誘電率を仕立てられることを示した。

シソーラス用語： *スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  タンタル ,  ニオブ ,  *タンタル合金 ,  ニオブ含有合金 ,  金属薄膜 ,  *酸化タンタル ,  *酸化ニオブ ,  *アノード酸化 ,  *酸化膜 ,  光学ギャップ ,  *誘電率 ,  誘電体
準シソーラス用語： 高k誘電体

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  化成処理  (WC08050J) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (8件)： マグネトロン ,  スパッタ蒸着 ,  Ta ,  Nb ,  Nb合金 ,  陽極酸化膜 ,  固体 ,  評価