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J-GLOBAL ID：201202210701506024   整理番号：12A0627609

スペクトル純度の高い軟X線の発生と無機材料のマイクロ・ナノ加工

著者 (1件)： 牧村哲也 (筑波大 大学院数理物質科学研究科)
資料名： 天田財団研究概要報告書・国際交流報告書
号： 24  ページ： 188-193  発行年： 2012年03月 
JST資料番号： J0694A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 難加工性材料であるセラミックスの加工に対して,レーザ励起プラズマからの高輝度パルス軟X線を利用することを提案した。本報告においては,レーザプラズマ軟X線照射装置の開発とこの装置の特性について示した後,シリカガラスに対するアブレーション加工実験について記した。この実験から,高パワー密度のNd:YAGレーザをTaターゲットに照射することで軟X線が得られること,Au被覆楕円ミラーを用いた集光系の開発により軟X線を効率良く利用できることを確認した。この光学系を用いたシリカガラスのアブレーション加工が,本方式が有効な手段であることを立証した。

シソーラス用語： *セラミック ,  *軟X線 ,  *アブレーション ,  微細加工 ,  レーザ照射

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

引用文献 (12件)：

• 1) H. Akazawa, J.Takahashi, Y. Utsumi, I. Kawashima, and T. Urisu, J. Vac. Sci. Technol. A 9, (1991), 2653.
• 2) Y. Utsumi, J. Takahashi, and T. Urisu, J. Vac. Sci. Technol. B9, (1991), 2507.
• 3) H. Akazawa, Phys. Rev. B52, 12386 (1995).
• 4) J. Takahashi, Y. Utsumi, and T. Urisu, J. Appl. Phys. 70, (1991), 2958.
• 5) C. Wang, and T. Urisu, Jpn. J. Appl. Phys. 42, (2003), 4016.

タイトルに関連する用語 (3件)： 軟X線 ,  無機材料 ,  ナノ加工