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J-GLOBAL ID:201202211473257147   整理番号:12A0140187

被覆層/基板モデルから誘導されたシミュレーテッドARXPSデータからの深さプロフィル抽出に対する正則化法

Regularization methods for the extraction of depth profiles from simulated ARXPS data derived from overlayer/substrate models
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巻: 184  号: 11-12  ページ: 569-582  発行年: 2012年01月 
JST資料番号: D0266C  ISSN: 0368-2048  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ケイ素上の酸化ケイ素の位置決めされた深さプロフィルから出発して,100セットのノイジーシミュレーテッドARXPSデータを3,6,9,12,15,18,21,24及び27Åの各酸化層厚に対して創り出したした。酸素の深さプロフィルを,最大エントロピー及びTikhonov正則化を含む正則化された逆変換法を用いてノイジーシミュレーテッドデータから回復した。3つの正則化パラメータ:1つはS曲線により決定されたもの,1つはL曲線により決定されたもので,3つめは入力と抽出プロフィルとの間の最近接対応に対応するもの:を用いた。評価されたいろいろな正則化スキームは,入力プロフィル再現能力に従ってランク付けされた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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電子分光スペクトル 
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