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J-GLOBAL ID:201202211717942777   整理番号:12A1312854

表面形態と活性チャネルのパッキング密度を改善することによるa-IGZO TFTの電気的安定性の向上

Enhancement of electrical stability of a-IGZO TFTs by improving the surface morphology and packing density of active channel
著者 (7件):
資料名:
巻: 13  号:ページ: 246-251  発行年: 2013年01月 
JST資料番号: W1579A  ISSN: 1567-1739  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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0.74~2.22W/cm2の範囲で動作パワー密度(pd)を変えながら直流スパッタリングによりSi基板上にa-IGZO膜を堆積した。材料特性とそれのIGZO薄膜トランジスタ(TFT)の電気的安定性への効果の相関をpdの関数として調べた。pdが1.72W/cmであるとa-IGZO膜は最も滑らかで(0.309nm),チャネルはInに富みGaが乏しい組成であった。この秩序構造TFTは高い電界効果移動度9.14cm2/Vs,サブスレッショルドスイング(S.S.)が0.566V/decで,107のオンオフ比を持っている。それに加えて,ヒステリシスループのVthシフトはほとんど存在しなかった。a-IGZO膜の高密度化が界面トラップ密度の減少(1.83×1012cm-2)をもたらし電気的,熱的安定性に寄与することを示した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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トランジスタ 

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