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J-GLOBAL ID：201202212261863230   整理番号：12A0612234

低応力の勾配屈折率Si_xO_yF_z厚膜の蒸着と特性化

Deposition and characterization of thick graded index Si _x O _y F _z films with low stress

著者 (4件)： MICHAEL Aron (School of EE&T, The Univ. of New South Wales, Sydney, NSW 2052, AUS) ,  HAFIZ Abdullah Al (School of EE&T, The Univ. of New South Wales, Sydney, NSW 2052, AUS) ,  PUZZER Tom (School of EE&T, The Univ. of New South Wales, Sydney, NSW 2052, AUS) ,  KWOK Chee Yee (School of EE&T, The Univ. of New South Wales, Sydney, NSW 2052, AUS)
資料名： Sensors and Actuators. A. Physical  (Sensors and Actuators. A. Physical)
巻： 178  ページ： 110-117  発行年： 2012年05月 
JST資料番号： B0345C  ISSN： 0924-4247  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiH₄/O₂/CF₄混合物からホロー陰極プラズマ支援化学蒸着により,低応力で無亀裂の弗素ドープ勾配屈折率シリカ(Si_xO_yF_z)厚膜の実現に適する蒸着技術を開発した。膜の屈折率,応力,蒸着速度,化学結合状態,化学組成を調べた。この方法を用いて,正味応力が僅か30MPa(非圧縮性)である厚み28μmの一次元GRINレンズを蒸着し,勾配屈折率分布を光学的に試験した。また,水分が膜に及ぼす影響を調べ,簡単な予防法を提唱した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *厚膜 ,  *プラズマCVD ,  屈折率 ,  堆積速度 ,  化学結合 ,  化学組成 ,  ケイ化物 ,  酸化物 ,  フッ化物 ,  キャラクタリゼーション ,  *レンズ ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *GRINレンズ ,  *シリカ厚膜 ,  勾配屈折率

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 応力 ,  勾配屈折率 ,  厚膜 ,  蒸着 ,  特性化