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J-GLOBAL ID：201202213396483840   整理番号：12A0723145

薄膜応力の成長速度,温度及び微細構造依存性の動力学的モデル

Kinetic model for dependence of thin film stress on growth rate, temperature, and microstructure

著者 (4件)： CHASON E. (School of Engineering, Brown Univ., Providence, Rhode Island 02912, USA) ,  SHIN J. W. (Novellus, 11155 SW Leveton Dr., Tualatin, Oregon 97062, USA) ,  HEARNE S. J. (Sandia National Lab., Albuquerque, New Mexico 87185, USA) ,  FREUND L. B. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Illinois at Urbana-Champaign, Urbana, Illinois 61801, USA)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 111  号： 8  ページ： 083520-083520-9  発行年： 2012年04月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多くの薄膜は,その堆積中,圧縮状態から引張状態へ,そしてその逆へと変化する広範囲の応力状態を通過する。さらに,薄膜応力はプロセス及び材料パラメータに依存する。薄膜応力の発展を記述する簡単な解析モデルを構築した。このモデルは表面と粒界が交わる三重接点における応力の発生及び緩和の異なるメカニズム間の競合に基づいている。このモデルは定常状態における応力が無次元パラメータD/LR(R:拡散率,R:成長速度,L:結晶粒サイズ)にどのように依存するかを記述する。また,このモデルは微細構造が分離島構造から連続膜へと発展していく際の引張応力から圧縮応力への遷移を説明する。このモデルからの計算結果を実験結果と比較した。実験では定常状態における応力の結晶粒サイズ及び成長速度依存性を測定し,また,温度を変えて膜厚増加に伴う応力発展を測定した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *薄膜成長 ,  残留応力 ,  *膜応力 ,  解析モデル ,  成長速度 ,  速度依存性 ,  結晶粒度 ,  粒度依存性 ,  温度依存性
準シソーラス用語： 膜厚依存性

分類 (1件)： 薄膜一般  (BK14010X)

タイトルに関連する用語 (5件)： 膜応力 ,  成長速度 ,  微細 ,  構造依存性 ,  動力学的モデル