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J-GLOBAL ID：201202213593059775   整理番号：12A0689791

光塩基発生剤でドープした揮発性単量体からなるポリ(オレフィンスルホン)フィルムにおける光誘起解重合

Photoinduced Depolymerization in Poly(olefin sulfone) Films Comprised of Volatile Monomers Doped with a Photobase Generator

著者 (6件)： SASAKI Takeo (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  KONDO Takayuki (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  NORO Motoki (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  SAIDA Kazuya (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  YAGUCHI Hiroaki (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  NAKA Yumiko (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry  (Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry)
巻： 50  号： 8  ページ： 1462-1468  発行年： 2012年04月15日 
JST資料番号： C0337C  ISSN： 0887-624X  CODEN： JPLCAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 揮発性オレフィン単量体(1-ブテン,1-ペンテン,1-ヘキセン,1-オクテン,2-メチル-1-ブテン,2-メチル-1-ペンテン,2-メチル-1-ヘキセン,2-メチル-1-ノネン,シクロペンテンおよびシクロヘキセン)と二酸化硫黄との交互共重合により,一連のポリ(オレフィンスルホン)を調製し,光塩基発生剤と混合した。これらの重合体フィルムの光誘起解重合を研究した。光塩基発生剤でドープした揮発性単量体からなるポリ(オレフィンスルホン)フィルムに254nmの紫外線を照射すると光誘起解重合が起こり,フィルムの照射部分が気化した。光誘起解重合過程に及ぼす重合体構造の影響を研究した。本研究の重合体系は現像溶媒を必要とせずにステレオリソグラフィーなどへの応用が可能であると考察した。

シソーラス用語： *ポリスルホン ,  揮発性 ,  アルケン ,  二酸化硫黄 ,  交互共重合体 ,  光塩基発生剤 ,  *化学増幅レジスト ,  *解重合 ,  フォトリソグラフィー ,  塩基触媒反応 ,  パターン形成 ,  反応機構 ,  脱炭酸反応 ,  光化学反応 ,  シクロアルケン
準シソーラス用語： *ポリオレフィンスルホン

分類 (2件)： 高分子の分解,劣化  (CG03010A) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (11件)： 1-オクテン ,  1-ブテン ,  1-ヘキセン ,  1-ペンテン ,  2-メチル-1-ブテン ,  2-メチル-1-ヘキセン ,  2-メチル-1-ペンテン ,  シクロヘキセン ,  シクロペンテン ,  2-メチル-1-ノネン ,  4,4′-トリメチレンビス(ピペリジン-1-カルボン酸2-ニトロベンジル)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光塩基発生剤 ,  ドープ ,  揮発性 ,  単量体 ,  フィルム ,  光誘起 ,  解重合