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J-GLOBAL ID：201202213666402783   整理番号：12A1429716

低k₁のための重ね合わせメトロロジ:挑戦とソリューション

Overlay metrology for low-k₁: Challenges and solutions

著者 (15件)： NEUMANN Jens Timo (Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU) ,  LEE Jongsu (Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR) ,  YANG Kiho (Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR) ,  LEE Byounghoon (Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR) ,  LEE Taehyeong (Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR) ,  PARK Jeongsu (Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR) ,  LIM Chang-Moon (Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR) ,  YIM Donggyu (Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR) ,  PARK Sungki (Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do, KOR) ,  JANDA Eric (ASML, Veldhoven, NLD) ,  BHATTACHARYYA Kaustuve (ASML, Veldhoven, NLD) ,  RYU Chan-Ho (ASML Korea, Gyunggi-do, KOR) ,  MIN Young-Hong (ASML Korea, Gyunggi-do, KOR) ,  RHE Kiki (ASML Korea, Gyunggi-do, KOR) ,  GEH Bernd (Carl Zeiss S.M.T. Inc., AZ, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8326  号： Pt.1  ページ： 832602.1-832602.21  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リソグラフィはλ=193nmでの量産が標準であり,液浸露光はNA=1.5が限界となってMoorの法則に追従する唯一の方法はk₁の低減である。解像限界に近い方法としてオフアクシス照明(OAI)がある。OAIと同時に厳しい重ね合わせ規格が必要になる。典型的なボックスインボックスやAdvanced Imaging Markなどの重ね合わせ測定は,OAIの場合極めて性能が悪い。本稿はこの根本原因を解析し,レジスト上の重ね合わせを理解し結果を予測する方法を確立する。シミュレーションフローはリソグラフィ露光とレジストプロファイルの検査も包括する。フローは画像ベース(IBO)と回折ベース(DBO)重ね合わせ測定を含んでいる。解析の結果,重ね合わせ測定最適化にはIBOの分割マークやDBOがが好ましく,DBOでは重ね合わせ感度が大きく改善されることがわかった。

シソーラス用語： *計測 ,  技術 ,  *重合せ ,  *リソグラフィー ,  露光 ,  フォトリソグラフィー ,  シミュレーション ,  レジスト ,  回折 ,  中心
準シソーラス用語： 液浸リソグラフィー ,  液浸露光 ,  計測技術 ,  光軸

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O)

タイトルに関連する用語 (2件)： 重ね合わせ ,  ソリューション