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J-GLOBAL ID：201202213679934890   整理番号：12A1245945

ミクロンスケールの数層グラフェン暗視野光電子放射顕微鏡法

Dark field photoelectron emission microscopy of micron scale few layer graphene

著者 (4件)： BARRETT N. (IRAMIS/SPCSI/LENSIS, F-91191 Gif-sur-Yvette, FRA) ,  CONRAD E. (The Georgia Inst. of Technol., Atlanta, Georgia 30332-0430, USA) ,  WINKLER K. (Omicron Nanotechnology GmbH, 65232 Taunusstein, DEU) ,  KROEMKER B. (Omicron Nanotechnology GmbH, 65232 Taunusstein, DEU)
資料名： Review of Scientific Instruments  (Review of Scientific Instruments)
巻： 83  号： 8  ページ： 083706-083706-6  発行年： 2012年08月 
JST資料番号： D0517A  ISSN： 0034-6748  CODEN： RSINAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは,SiC(000-1)上に成長させた異種数層グラフェン(FLG)の光電子放射顕微鏡法(PEEM)における暗視野イメージングについて報告する。エネルギーをフィルターした閾値PEEMを用いて,FLGグラフェンの注目すべきゾーンを探す。視野アパーチャーによって選択されたそれぞれの領域において,適当な伝達光学系を用いてk-空間情報をイメージ化する。与えられた波動ベクトルにおける光電子強度を選択し逆伝達光学を用いることによって,暗視野PEEMから角度光電子放射の空間分布が求められる。ここに報告する結果で,SiC(000-1)上のFLGに相応する回転のDirac円錐特性波動ベクトル座標が選択され,表面をまたぐ相応する回転の地図ができる。従って,この特別なタイプのコントラストは,局部バンド構造の空間分布をマップ化する1方法であり,また技術的に関連する微視的構造の物質を特性評価するための新しい実験室ツールとなるものである。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *グラファイト ,  多層 ,  光電子放出 ,  *電子顕微鏡観察 ,  視野 ,  炭化ケイ素 ,  閾値 ,  波数ベクトル ,  光電子 ,  強度 ,  空間分布 ,  回転 ,  バンド構造
準シソーラス用語： 暗視野

分類 (1件)： 顕微鏡法  (BK01040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： スケール ,  数層グラフェン ,  暗視野 ,  光電子放射 ,  顕微鏡法