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J-GLOBAL ID:201202213815484143   整理番号:12A0509841

ガスソース分子線エピタクシー成長によるInAs/InP(100)量子ドットの光学的検討

Optical investigation of InAs/InP(100) quantum dots grown by gas source molecular beam epitaxy
著者 (8件):
資料名:
巻: 55  号: 2-3  ページ: 205-209  発行年: 2012年03月 
JST資料番号: H0184A  ISSN: 1350-4495  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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InP(100)InAs基板上の,他の方法のアシストなしのガスソース分子線エピタクシー成長による量子ドットの光学的特性を報告した。InAs層の厚みと成長温度を調節し,フォトルミネセンスを注意深く調べた。InAs層の厚みの増加につれて幅広い範囲で発光ピークを得た。さらに,モフォロジーと量子ドットの形状が同じようにInAs層の厚みに強く依存することが見いだされた。原子間力顕微鏡像から,InAs層の厚みが増えた場合,量子ドットは[01-1]方向に沿って延びた量子ダッシュの形状をとるようになることが示された。量子ドット形成か量子ダッシュ形成かの臨界厚みを得た。同時に,成長温度は発光波長ピークに対し同じように強く影響することが見いだされた。発光波長1.55μmをもたらす,高品質のInAs/InP(100)量子ドットが得られ,良好な性能の量子ドットレーザが作製された。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
分類
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半導体薄膜  ,  半導体のルミネセンス  ,  半導体レーザ 

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