文献

J-GLOBAL ID：201202214287555960   整理番号：12A0783661

CuSO₄含浸SiO₂上のNH₃物理吸着のDFT研究

DFT investigation of NH₃ physisorption on CuSO₄ impregnated SiO₂

著者 (4件)： AMBATI Jyothirmai (Univ. Kentucky, Kentucky) ,  AMBATI Jyothirmai (REC Technol. US Inc., CA) ,  SAIYED Hamzah (Univ. Kentucky, Kentucky) ,  RANKIN Stephen E. (Univ. Kentucky, Kentucky)
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 14  号： 18  ページ： 6617-6627  発行年： 2012年05月14日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 硫酸銅含浸シリカのモデル上へのNH₃物理吸着を,純シリカ及び硫酸銅吸収剤の場合と比較した。その物理吸着過程を,乾燥吸収剤の吸着サイトへのNH₃分子の直接的結合として,並びに水和錯体中のNH₃によるH₂O分子の変位としてモデル化した。シリカ表面を,そのシリカケージに結合したCuSO₄イオン対を含むクラスタの最安定配置を示す,シルセスキオキサンケージ(H₇Si₈O₁₂(OH)及びCuSO₄含浸シリカに連結したヒドロキシル基により表現した。H₂Oを脱水吸着剤に系統的に加え,NH₃吸着における水の役割を研究した。各タイプの吸着剤水和環境のモデリングにおいて,活性サイトと直接配位したH₂O分子に注目した。その結果,混合吸収剤上吸着NH₃の結合エネルギーは純シリカよりも大きいことが示される。混合吸着剤におけるその増強結合は,CuSO₄の存在下でのシラノールの改善Broensted酸度と合致する。

シソーラス用語： 硫酸銅 ,  含浸 ,  吸収剤 ,  *アンモニア ,  *物理吸着 ,  密度汎関数法 ,  水分子 ,  活性部位 ,  添加物効果 ,  気固界面 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ

分類 (3件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  非金属化合物  (CD01070R) ,  吸着剤  (YB03000W)

タイトルに関連する用語 (7件)： CuSO4 ,  含浸 ,  SiO2 ,  NH3 ,  物理吸着 ,  DFT ,  研究