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J-GLOBAL ID：201202214443139076   整理番号：12A1446028

リソからエッチへのラフネス転写のCD-SEMによる評価

Evaluation of roughness transfer from Litho to Etch using CD-SEM

著者 (4件)： TANAKA M. (Hitachi High-Technol., Ibaraki-ken, JPN) ,  ISHIMOTO T. (Hitachi High-Technol., Ibaraki-ken, JPN) ,  KAZUMI H. (Hitachi High-Technol., Ibaraki-ken, JPN) ,  CHENG S. (imec vzw, Leuven, BEL)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8324  号： Pt.2  ページ： 83242H.1-83242H.7  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CD-SEMとCD-AFMを用いて,線幅ラフネス(LWR)とラインエッジラフネス(LER)を測定し,レジストパターンからエッチパターンへのラフネスの転写を研究した。CD-SEM測定は1フレーム測定によってレジストの縮み(変形)を低減した。1フレーム測定に伴うS/N比減少を画像強調技術で補った。CD-SEMとCD-AFMによるラフネスの変動およびそのパワースペクトルを比較した。エッチパターンのラフネスは高周波数成分が顕著であった。

シソーラス用語： *走査電子顕微鏡 ,  *原子間力顕微鏡 ,  表面粗さ ,  フォトレジスト ,  *エッチング ,  テストパターン ,  パワースペクトル密度 ,  画像強調 ,  転写
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】 ,  *CD-AFM ,  *CD-SEM【顕微鏡】 ,  エッチ ,  *ラインエッジラフネス

分類 (1件)： 電子顕微鏡,イオン顕微鏡  (BD02050B)

タイトルに関連する用語 (4件)： エッチ ,  転写 ,  CD-SEM ,  評価