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J-GLOBAL ID：201202215434949479   整理番号：12A0587543

イオン注入レジストの構造解析(2)

著者 (6件)： 後藤洋介 (金沢工大) ,  山本雅史 (金沢工大) ,  信田拓哉 (日東分析センター) ,  飯田貴之 (日東分析センター) ,  河野昭彦 (金沢工大) ,  堀邊英夫 (金沢工大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 59th  ページ： ROMBUNNO.18P-A4-4  発行年： 2012年02月29日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *イオン注入 ,  *レジスト ,  *構造解析 ,  *除去 ,  ナノインデンテーション ,  硬さ試験 ,  表面硬化 ,  二次イオン質量分析 ,  飛行時間法 ,  クレゾール樹脂 ,  ノボラックエポキシ樹脂 ,  分子構造 ,  硬化層 ,  下層 ,  上層 ,  FTIR分光法
準シソーラス用語： TOF-SIMS ,  クレゾールノボラック

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (3件)： イオン注入 ,  レジスト ,  構造解析