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J-GLOBAL ID：201202215911815820   整理番号：12A1205678

室温ナノインプリントリソグラフィによるPDMS(ポリジメチルシロキサン)酸化マスクパターンの形成

著者 (6件)： 松田将平 (舞鶴工高専) ,  清原修二 (舞鶴工高専) ,  田口佳男 (エリオニクス) ,  杉山嘉也 (エリオニクス) ,  小俣有紀子 (エリオニクス) ,  倉島優一 (産業技術総合研 集積マイクロシステム研究セ)
資料名： ナノ学会大会講演予稿集  (ナノ学会大会)
巻： 10th  ページ： 120  発行年： 2012年06月14日 
JST資料番号： L3641B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *ポリジメチルシロキサン ,  *型 ,  アニオン ,  パターン転写 ,  ダイヤモンド ,  固体素子 ,  ナノメータ加工 ,  スピンコーティング ,  鋳型【鋳造】 ,  *パターン形成 ,  *室温
準シソーラス用語： *ナノインプリントリソグラフィー ,  *マスクパターン ,  酸素イオン ,  ナノデバイス ,  ナノ加工

分類 (3件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  有機けい素化合物  (CF08030C)

タイトルに関連する用語 (6件)： 室温 ,  ナノインプリントリソグラフィ ,  PDMS ,  ポリジメチルシロキサン ,  酸化 ,  マスクパターン