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J-GLOBAL ID：201202216662013579   整理番号：12A0562944

マグネトロンスパッタリングした非晶質Cr-C膜の堆積と特性評価

Deposition and characterization of magnetron sputtered amorphous Cr-C films

著者 (6件)： ANDERSSON Matilda (Dep. of Chemistry - Ångstroem, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., Box 538, SE-751 21 Uppsala, SWE) ,  HOEGSTROEM Jonas (Dep. of Chemistry - Ångstroem, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., Box 538, SE-751 21 Uppsala, SWE) ,  URBONAITE Sigita (Dep. of Chemistry - Ångstroem, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., Box 538, SE-751 21 Uppsala, SWE) ,  FURLAN Andrej (Dep. of Chemistry - Ångstroem, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., Box 538, SE-751 21 Uppsala, SWE) ,  NYHOLM Leif (Dep. of Chemistry - Ångstroem, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., Box 538, SE-751 21 Uppsala, SWE) ,  JANSSON Ulf (Dep. of Chemistry - Ångstroem, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., Box 538, SE-751 21 Uppsala, SWE)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 86  号： 9  ページ： 1408-1416  発行年： 2012年03月14日 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Cr-C系の薄膜で炭素含有量が25ないし85%のものを,元素ターゲットからの非反応性DCマグネトロンスパッタリングを用いて堆積させた。X線回折と透過型電子顕微鏡による解析は,膜が完全に非晶質であることを確認した。また,熱処理実験は,膜が500°Cまでは結晶化しないことを示した。さらに,X線分光とRaman分光は,膜が非晶質CrC_x相と非晶質炭素(a-C)相の2相から成ることを示した。2つの非晶質相が存在することは,電気化学的解析によっても支持されたが,これはまた不動態化領域において,全電流に対してクロムと炭素の酸化がともに寄与することを示した。これら非晶質相の相対的な量が膜特性に影響した。典型的には,低炭素含有量はより少量のa-C相を持ち,より硬い,Young率の高い,抵抗の低い膜をもたらした。結果はまた,両膜が不動態化領域では,被覆されていない316Lステンレス鋼基板よりも低い電流を持つことを示した。最後に,我々の結果は,反応性および非反応性スパッタした炭化クロム膜の文献データと比較した。比較は,非晶質膜の形成のためには非反応性スパッタリングの方が有利であり,a-C膜のsp²/sp³比にも影響することを明らかにした。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *クロム化合物 ,  *炭化物 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *非晶質 ,  ナノインデンテーション ,  X線回折 ,  *Young率 ,  *微小硬さ ,  微細構造 ,  電気化学的腐食試験 ,  蒸着膜
準シソーラス用語： *炭化クロム

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  電極過程  (CB07040U)

タイトルに関連する用語 (5件)： マグネトロンスパッタリング ,  非晶質 ,  Cr ,  堆積 ,  特性評価