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J-GLOBAL ID:201202216856111024   整理番号:12A1738477

気体NH3環境における電子ビーム誘起化学ドライエッチングおよびイメージング

Electron beam induced chemical dry etching and imaging in gaseous NH3 environments
著者 (4件):
資料名:
巻: 23  号: 37  ページ: 375302,1-7  発行年: 2012年09月21日 
JST資料番号: W0108A  ISSN: 0957-4484  CODEN: NNOTER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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炭素のナノスケール電子ビーム誘起エッチング(EBIE)のための新しい前駆物質として,そして環境制御型走査電子顕微鏡(ESEM)用の効率の良いイメージング媒体として,アンモニア(NH3)蒸気を使用する方法を実証した。また,電子ビーム誘起蒸着(EBID)により成長させアモルファス炭素ナノワイヤを使用して,そのエッチングを実証した。そのエッチングのメカニズムはNH3の電子誘起解離により形成された吸着水素に伴う反応によるCH3基の除去などを含む。このエッチングは高い材料選択性があり,ナノ結晶ダイヤモンドを揮発させない。さらに,アンモニアが,今日まで最も一般的に使用されているESEMイメージングガスであり,H2Oよりも有効なイメージング媒体であることを示した。
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般  ,  電子ビーム・イオンビームの応用 

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