オーバレイ精度の新しい分析アルゴリズム

HAM Boo-Hyun; YUN Sangho; KWAK Min-Cheol; HA Soon Mok; KIM Cheol-Hong; NAM Suk-Woo

文献

J-GLOBAL ID：201202217394504838 整理番号：12A1429671

オーバレイ精度の新しい分析アルゴリズム

New Analytical Algorithm for Overlay Accuracy

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資料名：
巻： 8324 号： Pt.1 ページ： 83240A.1-83240A.9 発行年： 2012年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

2Xnmを超えるフォトリソグラフィへの拡張はオーバレイ制御により挑戦される。オーバレイデータ解析への新しい手法である非破壊方法の概念を提案した。製品層上では,この概念はオーバレイ不精度を持つことを発見した。さらに,新しい技術によりオーバレイ誤差の源を発見した。全オーバレイ誤差データは二つの部分,系統的誤差とランダム誤差に分解される。両方の誤差成分特性を示すことを試み,系統誤差はスキャナ状態により残留誤差との優れた相関性を持ち,一方で,ランダム誤差はプロセス工程を進めるにつれて残留誤差との優れた相関性を持つ。

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固体デバイス製造技術一般 , 半導体集積回路

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