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J-GLOBAL ID：201202217769084599   整理番号：12A1370872

光重合マイクロ/ナノ構造の収縮のその場研究 乾燥過程の効果

In situ investigation of the shrinkage of photopolymerized micro/nanostructures: the effect of the drying process

著者 (3件)： SUN Quan ,  UENO Kosei ,  MISAWA Hiroaki
資料名： Optics Letters  (Optics Letters)
巻： 37  号： 4  ページ： 710-712  発行年： 2012年02月15日 
JST資料番号： H0690A  ISSN： 0146-9592  CODEN： OPLEDP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機-無機レジスト内のフェムト秒直接レーザ書込により製作した光重合マイクロ/ナノ構造の収縮の実験的研究を報告した。現像及び水洗段階に続く乾燥過程中の製作フォトニック結晶の阻止バンド位置の青方シフトは,乾燥過程が収縮の形成で重要な役割を果たすことを示した。更に,構造のその場光学的監視により,収縮は殆ど完全に乾燥過程中に起こることを確認した。これらの知見は,光重合型直接レーザ書込法の応用において,収縮をより良く理解し制御し積極的に利用さえもする助けになろう。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *レーザリソグラフィー ,  *光重合 ,  パルスレーザ ,  微細構造 ,  ナノ構造 ,  階層構造 ,  *結晶 ,  フォトニックバンドギャップ ,  FTIR分光法 ,  *反射スペクトル ,  青方偏移 ,  *乾燥 ,  *収縮 ,  フォトレジスト ,  有機-無機ハイブリッド ,  その場観察 ,  フェムト秒レーザ ,  *フォトニック結晶

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光重合 ,  ナノ構造 ,  収縮 ,  研究 ,  過程