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J-GLOBAL ID：201202218277622060   整理番号：12A1439726

先端ロジック工場における高品質マスク保管

High quality mask storage in an Advanced Logic-Fab

著者 (2件)： JAEHNERT Carmen (Infineon Technol. Dresden GmbH, Dresden, DEU) ,  FRITSCHE Silvio (Infineon Technol. Dresden GmbH, Dresden, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8352  ページ： 83520Q.1-83520Q.18  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 安全で高品質のマスク保管と同時に効率的なマスク物流がロジックウエハファブのリソグラフィ部門に必要である。課題は量産に使う位相シフトマスクのヘイズ防止である。ドレスデンのInfinion社は2008年にマスクハンドリングと物流を結んだマスク保管システムでDMSシステムを開発した。この保管システムは3000以上のマスクを自動ハンドリングで保管し,NikonとSMIFのレチクルケースを使用している。ESD対策,RFIDによるマスク追跡,露光装置との連携を開発し導入している。ストッカーはiCAD-RSMシステムで遠隔操作され露光装置からの要求マスクは迅速に供給される。マスク表面は低湿度の制御されたエアフローに曝され,ヘイズと粒子汚染から保護されている。保管システムは頻繁なマスク出し入れでも温度湿度が一定に保たれている。RFIDとトレーサビリティは箱からマスクを切り離し,コストと時間を削減し,粒子を低減させた。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  レチクル ,  *収納部分 ,  生産工場 ,  論理素子 ,  *物流システム ,  リソグラフィー ,  自動化 ,  RFID ,  遠隔制御 ,  粒状物汚染 ,  トレーサビリティ
準シソーラス用語： オートメーション ,  ロジックデバイス ,  ヘイズ ,  遠隔操作 ,  *半導体工場 ,  保管場所 ,  粒子汚染 ,  露光装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： ロジック ,  工場 ,  高品質 ,  マスク ,  保管