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J-GLOBAL ID：201202222350144803   整理番号：12A0395929

固体SiCとの,熱窒素プラズマの反応による,SiCナノ粒子の効果的な作製

Effective preparation of SiC nanoparticles by the reaction of thermal nitrogen plasma with solid SiC

著者 (6件)： OKUYAMA Hideo (National Inst. for Materials Sci., 1-2-1 Sengen, Tsukuba-shi, Ibaraki 305-0047, JPN) ,  SAITO Sho (National Inst. for Materials Sci., 1-2-1 Sengen, Tsukuba-shi, Ibaraki 305-0047, JPN) ,  SAITO Sho (Shibaura Inst. of Technol., 3-7-5 Toyosu, Kotoh-ku, Tokyo 108-8548, JPN) ,  UDA Masahiro (National Inst. for Materials Sci., 1-2-1 Sengen, Tsukuba-shi, Ibaraki 305-0047, JPN) ,  NAKATA Takeshi (Shibaura Inst. of Technol., 3-7-5 Toyosu, Kotoh-ku, Tokyo 108-8548, JPN) ,  SAKKA Yoshio (National Inst. for Materials Sci., 1-2-1 Sengen, Tsukuba-shi, Ibaraki 305-0047, JPN)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 520  ページ： 127-131  発行年： 2012年04月15日 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiCナノ粒子は,熱分解を含む気相反応か前駆体法により,主に製作されることはよく知られている。この報告では,固体SiCのブロック,またはSiとCの混合物のコンパクトと,窒素アークプラズマとの間の反応で,SiCナノ粒子を効果的に製作する新しい方法を提案した。様々な窒素分圧を含む,0.1MPaの全圧下で,固体SiCブロックに窒素アークプラズマを照射した。100%のArプラズマ中でのSiCナノ粒子の生成速度は無視できた。しかしながら,SiCナノ粒子の生成速度は,Ar中の窒素濃度の増加で増加した。100%の窒素プラズマの場合は,生成速度が最も高い値になった。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *炭化ケイ素 ,  *ナノ粒子 ,  *窒素 ,  プラズマ ,  アーク放電 ,  粒径
準シソーラス用語： *アークプラズマ

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 固体 ,  SiC ,  窒素プラズマ ,  ナノ粒子 ,  作製