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J-GLOBAL ID：201202222855913453   整理番号：12A0425022

白色光干渉法を用いた構造化ナノ導波路デバイスの局所的波長分散の新測定方法

A New Method of Measuring Localized Chromatic Dispersion of Structured Nanowaveguide Devices Using White-Light Interferometry

著者 (7件)： KIM Dong Wook (Inha Univ., Incheon, KOR) ,  KIM Seung Hwan (Inha Univ., Incheon, KOR) ,  KIM Seung Hwan (Advanced Technol. Inc., Incheon, KOR) ,  LEE Seoung Hun (Inha Univ., Incheon, KOR) ,  KIM Kyong Hon (Inha Univ., Incheon, KOR) ,  LEE Jong-Moo (ETRI, Daejeon, KOR) ,  LEE El-Hang (INHA Univ., Incheon, KOR)
資料名： Journal of Lightwave Technology  (Journal of Lightwave Technology)
巻： 30  号： 1-4  ページ： 43-48  発行年： 2012年01月01日 
JST資料番号： H0922A  ISSN： 0733-8724  CODEN： JLTEDG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ導波路デバイスの局所的波長分散(CD)の分布形状を測定するための,白色光干渉計(WLI)を利用した簡単で直接的な方法を提示した。WLIの一方のアームへ試験試料の挿入することで引起される干渉縞の位相変化から,CD係数の正確なスペクトル分布を決定する。この提案方法の有効性を,シリコンナノ導波路と非メンブレン型のフォトニック結晶導波路(PhCW)を用いた局所的CDのスペクトル分布の測定を通して検査した。測定したPhCWは,シリコンオンインシュレータ(SOI)ウェハの厚さ220nmのシリコン層に格子周期が460nmで孔半径が165nmの500nm幅の単一線欠陥(W1)を形成したものである。測定した局所的CD値は,1530nm~1570nmの波長範囲で,0.38ps~0.22psまで変化した。この方法はナノ光導波路デバイスのCD分布を正確に決定する上で有用である。

シソーラス用語： *光導波路 ,  ナノ構造 ,  光学的測定 ,  白色光 ,  *光干渉法 ,  局所性 ,  干渉計 ,  光分散
準シソーラス用語： *フォトニック結晶導波路 ,  光干渉計 ,  波長分散

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  干渉測定と干渉計  (BD07070G)

タイトルに関連する用語 (5件)： 白色光干渉法 ,  構造化 ,  ナノ導波路 ,  波長分散 ,  測定方法