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J-GLOBAL ID:201202223003601230   整理番号:12A1245848

酸化インジウム亜鉛を基本とするトランジスターにおける負バイアス印加ストレスによって誘起される不安定性の異常な振る舞い:陽イオンコンビナトリアル法

Anomalous behavior of negative bias illumination stress instability in an indium zinc oxide transistor: A cation combinatorial approach
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巻: 101  号:ページ: 092107-092107-5  発行年: 2012年08月27日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,IZO薄膜を基本とするトランジスター(TFT)の性能と安定性に対する酸化インジウム亜鉛中におけるインジウムの組成比の効果を試験した。Inの組成比が増すと,電界効果移動度とサブスレッショウルドスイングは大幅に改善される;ZnOを基本とするTFTの電界効果移動度とサブしきい値スイングが,それぞれ1.1cm2/Vsおよび2.4V/ディケードであるのに対して,85原子%のInを含むTFTの値は,それぞれ41.0cm2/Vsおよび0.2V/ディケードであることが分かった。対照的に,Inの組成比が73~77原子%近傍の極小値として与えられる負バイアス照射ストレスによって誘起される不安定性が観測された。この振る舞いはIZO薄膜における多結晶から非晶質相への構造相転移によって説明される。(翻訳著者抄録)
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トランジスタ 

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