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J-GLOBAL ID：201202223243012097   整理番号：12A0583171

Ti注入アルミナの電気伝導率について

On the electrical conductivity of Ti-implanted alumina

著者 (10件)： SALVADORI M. C. (Inst. of Physics, Univ. of Sao Paulo, C.P. 66318, CEP 05315-970, Sao Paulo S.P., BRA) ,  TEIXEIRA F. S. (Inst. of Physics, Univ. of Sao Paulo, C.P. 66318, CEP 05315-970, Sao Paulo S.P., BRA) ,  CATTANI M. (Inst. of Physics, Univ. of Sao Paulo, C.P. 66318, CEP 05315-970, Sao Paulo S.P., BRA) ,  NIKOLAEV A. (High Current Electronics Inst., Russian Acad. of Sciences, Tomsk 634055, RUS) ,  SAVKIN K. P. (High Current Electronics Inst., Russian Acad. of Sciences, Tomsk 634055, RUS) ,  OKS E. M. (High Current Electronics Inst., Russian Acad. of Sciences, Tomsk 634055, RUS) ,  PARK H.-k. (Thomas Jefferson National Accelerator Facility, Newport News, Virginia 23606, USA) ,  PHILLIPS L. (Thomas Jefferson National Accelerator Facility, Newport News, Virginia 23606, USA) ,  YU K. M. (Lawrence Berkeley National Lab., Berkeley, California 94720, USA) ,  BROWN I. G. (Lawrence Berkeley National Lab., Berkeley, California 94720, USA)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 111  号： 6  ページ： 063714-063714-4  発行年： 2012年03月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 絶縁体に金属種をイオン注入することにより,実験者によりその電気抵抗率が制御された薄い電気伝導性表面層を形成することができる。高電圧表面破壊を制御するために,多くの場合,アルミナ加速器部品へのPtおよびTiの高エネルギー注入がよく採用されてきた。ここで述べる研究では,この現象の起源に関わる基本的な研究を行った。75keVでTi注入を行ったアルミナの結果と49eVでのPtおよび67eVでのAuを注入したポリマーに関する以前の研究を比較することにより,パーコレーション理論に基づく物理モデルを述べ,Ti-アルミナ複合体のパーコレーションパラメータを推定した。パーコレーションドーズ閾値は約4×10¹⁶cm^-2であり,また系が絶縁体-伝導体複合体を維持する最大のドーズは約10×10¹⁶cm^-2と見積もった。飽和電気伝導率は約50S/mであると推定した。観測されたTi注入アルミナの電気伝導率特性はパーコレーション理論により十分説明できた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *アルミナ ,  *チタン ,  絶縁材料 ,  金属元素 ,  *イオン注入 ,  表層 ,  加速器 ,  高電圧 ,  重合体 ,  パーコレーション ,  モデル ,  流量 ,  深さプロフィル ,  濃度依存性 ,  表面 ,  白金 ,  金 ,  *電気伝導率 ,  電気抵抗率 ,  絶縁体
準シソーラス用語： 表面層

分類 (2件)： その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O) ,  その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (4件)： Ti ,  注入 ,  アルミナ ,  電気伝導率