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J-GLOBAL ID:201202223715170007   整理番号:12A1520205

in situX線およびNMR測定で明らかにしたポリ(テトラメチル-p-シルフェニレンシロキサン)の相転移

Phase Transition of Poly(tetramethyl-p-silphenylenesiloxane) As Revealed by in Situ X-ray and NMR Measurements
著者 (5件):
資料名:
巻: 45  号: 18  ページ: 7446-7453  発行年: 2012年09月25日 
JST資料番号: B0952A  ISSN: 0024-9297  CODEN: MAMOBX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ベンゼン中,1,4-ビス(ヒドロキシジメチルシリル)ベンゼンのテトラメチルグアニジニウム・ジ(2-エチルヘキサン酸)塩を触媒とした重合でポリ(テトラメチル-p-シルフェニレンシロキサン):HO[Si(Me)2C6H4Si(Me)2O]H{PTMPS},を合成した。DSCで120~135°C近傍に溶液結晶化試料は単一吸熱ピーク,溶融結晶化フィルムは二重ピークを示した。PTMPSの加熱中のin situX線およびNMR測定で,結晶内に対角線的にパッキングされたフェニル環の滑りが融解吸熱領域以前に始まることを認めた。溶液結晶化試料では,分子滑りが特徴的なラメラ重なりを誘起して厚みの増したラメラの融解の単一の高温吸熱をもたらしたが,溶融結晶化試料では絡み合いアモルファス状態のためラメラ厚さは制約された。NMRからフェニル環の分子運動は溶融状態でも顕著な異方性をしめし,PTMPS分子の剛直性が示唆された。
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分類 (3件):
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無機重合体  ,  高分子固体の構造と形態学  ,  高分子の結晶構造 
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