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J-GLOBAL ID：201202225029504430   整理番号：12A1175002

SiO₂厚膜中のAgナノ粒子の成長の速度 Ostwald熟成のin situ光学評価

Kinetics of Ag nanoparticle growth in thick SiO₂ films: An in situ optical assessment of Ostwald ripening

著者 (2件)： JIMENEZ J.a. (Optical Spectroscopy & Nano-Materials Lab, New Coll. of Florida, Sarasota, FL 34243, USA) ,  SENDOVA M. (Optical Spectroscopy & Nano-Materials Lab, New Coll. of Florida, Sarasota, FL 34243, USA)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 135  号： 2-3  ページ： 282-286  発行年： 2012年08月15日 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 処理時の材料光学特性のリアルタイムモニタリングから,誘電体に埋込んだ貴金属化学種の物理化学変化の理解における顕著な進歩が達成され得る。本研究では空気雰囲気中で熱処理したソーダガラス上のSiO₂厚膜中に埋込んだNPについてOstwald熟成段階のAgナノ粒子(NP)成長の速度のリアルタイム評価にin situ光学ミクロ分光法を使用した。顕著なプラスモン変化によってMie消滅および結晶成長理論の枠組みの中でNPサイズの変化を追跡することが可能になった。Arrhenius型分析は上述のNP成長領域と関連して1.8eVの活性化エネルギーを示した。提案したin situ光学ミクロ分光法の新たな利用によって得た既報の結果とともに雰囲気/膜/基質物理化学相互作用の状況でデータを考察した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： Ostwald成長 ,  *ナノ粒子 ,  Mie散乱 ,  活性化エネルギー ,  その場観察 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  Ostwald熟成 ,  *銀ナノ粒子

分類 (2件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  固-気界面一般  (CB12041H)

タイトルに関連する用語 (7件)： SiO2 ,  厚膜 ,  Agナノ粒子 ,  成長 ,  Ostwald熟成 ,  光学 ,  評価