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J-GLOBAL ID：201202226131228126   整理番号：12A1737810

フォトマスクにおけるクロムマイグレーションのシミュレーション及びその防止

A Simulation of Chrome Migration and its Prevention in Photomask

著者 (4件)： KIM Jong-Min (PKL-Photronics, Choongnam, KOR) ,  HUR Ik-Boum (PKL-Photronics, Choongnam, KOR) ,  LEE Dong-Heok (PKL-Photronics, Choongnam, KOR) ,  CHOI Sang-Soo (PKL-Photronics, Choongnam, KOR)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8441  ページ： 844104.1-844104.8  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マスクへ高線量のエネルギーを照射する,開発したArF加速ツールを用いて,ArF照射誘起クロム(Cr)マイグレーションをシミュレートした。Crマイグレーションを,マスク接地条件への依存性について比較した。さらに,Crマイグレーションを軽減する新しい防止処理を設計し,評価した。防止処理が無い場合,Crマイグレーションは,ArF照明環境中において不可避であった。防止処理は,良好に働き,ArF照射によるCrマイグレーションは,マスク接地条件にかかわらず,見られなかった。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *クロム ,  *マイグレーション【化学物質】 ,  表面実装 ,  アルゴン化合物 ,  フッ化物 ,  コンタクトホール ,  側壁 ,  パターン形成 ,  自己拡散 ,  活性化エネルギー ,  *露光 ,  光起電力 ,  接地 ,  仕事関数 ,  *寸法精度 ,  走査電子顕微鏡 ,  シミュレーション ,  ウエハ【IC】 ,  *劣化 ,  洗浄
準シソーラス用語： ArF ,  CD-SEM ,  COG【実装】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： フォトマスク ,  クロム ,  マイグレーション ,  シミュレーション