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J-GLOBAL ID：201202227500492289   整理番号：12A0652251

低エネルギーイオンスパッタリング下のマイカ表面のナノパターニング

Nanopatterning of mica surface under low energy ion beam sputtering

著者 (4件)： METYA A. (Saha Inst. of Nuclear Physics, Sector - I, Block - AF, Bidhan Nagar, Kolkata 700064, IND) ,  GHOSE D. (Saha Inst. of Nuclear Physics, Sector - I, Block - AF, Bidhan Nagar, Kolkata 700064, IND) ,  MOLLICK S. A. (Saha Inst. of Nuclear Physics, Sector - I, Block - AF, Bidhan Nagar, Kolkata 700064, IND) ,  MAJUMDAR A. (Universitaet Greifswald, Felix-Hausdorff-Str. 6, 17489 Greifswald, DEU)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 111  号： 7  ページ： 074306-074306-7  発行年： 2012年04月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 結晶白雲母試料に500eV Ar⁺イオンを種々の入射角で照射し,顕著な表面形態の変化を引き起こすことができた。角度47~70°では,ナノスケールの周期的なリップルパターンが形成される。他方,すれすれ入射角~80°では捩れた円錐状の突出が表面に発達する。表面地形像の微分から,イオン入射面におけるサイドファセットの傾きの分布を測定し,それがパターン形態と強く関係していることを見出した。加えて,リップル構造に対し,イオンフルエンスを変化させて底角を調整できることを示した。低いフルエンスで得た非対称な鋸歯状の形のリップルは,高フルエンスにより対照的な三角形に変換される。傾きは小さいと分かっているから,パターン形成は勾配依存の侵食作用で引き起こされたのではなく,むしろ曲率依存のスパッタリング現象の一般的な効果である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *イオンビームスパッタリング ,  イオン ,  *白雲母 ,  *パターン形成 ,  形態 ,  入射角 ,  すれすれ入射 ,  ファセット ,  フルエンス ,  侵食作用 ,  スパッタリング ,  表面改質 ,  原子間力顕微鏡 ,  低速電子回折 ,  アルゴン
準シソーラス用語： Arイオン ,  表面形態 ,  *ナノパターニング

分類 (2件)： スパッタリング  (BK16110U) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 低エネルギーイオン ,  スパッタリング ,  マイカ ,  ナノパターニング