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J-GLOBAL ID：201202227765881783   整理番号：12A1718493

電子線後方散乱回折法で代表集合組織を得るための最小走査寸法の決定

Determination of the Minimum Scan Size to Obtain Representative Textures by Electron Backscatter Diffraction

著者 (4件)： BRAHME Abhijit (Univ. of Waterloo, Dep. of Mechanical and Mechatronics Engineering, 200 Univ. Ave. W, N2L 3G1, Waterloo, ON, CAN) ,  STARASELSKI Yauheni (Univ. of Waterloo, Dep. of Mechanical and Mechatronics Engineering, 200 Univ. Ave. W, N2L 3G1, Waterloo, ON, CAN) ,  INAL Kaan (Univ. of Waterloo, Dep. of Mechanical and Mechatronics Engineering, 200 Univ. Ave. W, N2L 3G1, Waterloo, ON, CAN) ,  MISHRA Raja K. (General Motors Res. and Dev. Center, 3500 Mound Rd., 48090-9055, Warren, MI, USA)
資料名： Metallurgical and Materials Transactions. A. Physical Metallurgy and Materials Science  (Metallurgical and Materials Transactions. A. Physical Metallurgy and Materials Science)
巻： 43  号： 13  ページ： 5298-5307  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： E0265B  ISSN： 1073-5623  CODEN： MTTABN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 集合組織の長距離依存性を評価するために微細組織を解析する新しい方法を提唱する。この方法では,平均失方位を電子線後方散乱回折像から測定したデータ点間の距離の関数として計算する。この方法により集合組織のクラスタリングの寸法を得て,これを用いて有効結晶粒径を正確に評価する。この手順を情報理論と合わせて用いて様々な材料の代表走査寸法を推定する。解析の結果,最適走査寸法は結晶粒形状と結晶学的集合組織に依存することを明らかにした。また,平均的には最適走査寸法は有効結晶粒径の10倍が必要であることをも明らかにした。Copyright 2012 The Minerals, Metals & Materials Society and ASM International Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 電子回折 ,  *集合組織 ,  走査 ,  結晶粒度 ,  距離 ,  クラスタ化 ,  結晶粒 ,  結晶方位 ,  マグネシウム合金 ,  アルミニウム合金 ,  セリウム含有合金 ,  マグネシウム ,  純金属
準シソーラス用語： AA5754 ,  AZ31 ,  電子線後方散乱回折

分類 (1件)： 金属組織観察法  (WB01010R)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電子線後方散乱回折 ,  集合組織 ,  走査