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J-GLOBAL ID:201202230973747374   整理番号:12A1377682

超低電力LSIを実現する薄膜BOX-SOI(SOTB)CMOS技術

Silicon on Thin Buried Oxide (SOTB) Technology for Ultralow-Power (ULP) Applications
著者 (22件):
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巻: 112  号: 170(ICD2012 31-56)  ページ: 29-32  発行年: 2012年07月26日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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CMOSの超低電力化への要求は相変わらず大きい。消費電力効率を出来るだけ高めた超低電圧動作CMOSデバイスが実現できれば,ユビキタスセンサネットワークなどへの広汎な応用が期待できる。現代の微細CMOSにおける超低電圧動作に対する主要課題は,トランジスタ特性のばらつきを抑え,かつ適応制御によって可能な限り低電圧で要求に見合う回路性能を引き出すことである。この課題を解決するために,我々は薄膜BOX-SOI(SOTB)というCMOSトランジスタを開発している。本報告では,SOTBの特長,超低電圧動作に向けたデバイス・プロセス技術,応用分野を拡大するためのデバイス・回路連携に関して述べる。(著者抄録)
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分類 (1件):
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集積回路一般 
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