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J-GLOBAL ID：201202231114691495   整理番号：12A1257399

ストリーマ放電におけるO,N,OHラジカル生成機構の解明

Numerical analysis of O,N and OH radical productions in atmospheric pressure streamer discharge

著者 (3件)： 小室淳史 (東大) ,  小野亮 (東大) ,  小田哲治 (東大)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-12  号： 68-84  ページ： 63-68  発行年： 2012年08月08日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 大気圧下でストリーマ放電シミュレーションを行い,O,N,OHラジカルの生成機構を考察した。実験結果とシミュレーション結果を比較してモデルの改良を繰り返し,より信頼性の高いモデルを構築した。その結果,乾燥空気中における放電発光,O,Nラジカルの軸方向分布の再現に成功した。Nラジカルの生成に関しては,振動励起分子を介した二段階解離過程の重要性を,シミュレーションと実験から明確に示すことができた。

シソーラス用語： ラジカル ,  酸素 ,  ヒドロキシルラジカル ,  シミュレーションモデル ,  *気体放電 ,  *放電反応 ,  反応生成物
準シソーラス用語： *ストリーマ放電 ,  ラジカル生成 ,  酸素ラジカル ,  大気圧プラズマ ,  窒素ラジカル ,  放電シミュレーション

分類 (2件)： 荷電体衝撃・放電による反応  (CB06020R) ,  気体放電  (BJ03020T)

引用文献 (42件)：

• (1) Hammer T 2002 Non-thermal plasma application to the abatement of noxious emissions in automotive exhaust gases Plasma Sources Sci. Technol. 11 A196-201.
• (2) Chang J S 2008 Physics and chemistry of plasma pollution control technology Plasma Sources Sci. Technol. 17 045004.
• (3) Locke B R, Sato M, Sunka P, Hoffmann M R and Chang J S 2006 Electrohydraulic discharge and nonthermal plasma for water treatment hid. Eng. Chem. Res 45 882-905.
• (4) Schram D C, Mullen J A M and Sanden M C M 1994 Plasma processing and chemistry Plasma Phys. Control. Fusion 36 B65-78.
• (5) Miao L, Tanemura S, Watanabe H, Mori Y, Kaneko K and Toh S 2004 The improvement of optical reactivity for TiO₂ thin films by N₂-H₂ plasma surface-treatment J. Crystal Growth 260 118-24.

タイトルに関連する用語 (2件)： ストリーマ放電 ,  OHラジカル