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J-GLOBAL ID：201202231553021951   整理番号：12A1524798

極端紫外領域でのSiCキャップ層を有するチャープMo/Si多層膜反射鏡の設計

Design of the chirped Mo/Si multilayer mirror with SiC capping layer in extreme ultraviolet region

著者 (7件)： WANG Feng-li (Key Lab. of Advanced Micro-structure Materials, MOE, Dep. of Physics, Tongji Univ., Shanghai 200092, CHN) ,  LIU Lei (Key Lab. of Advanced Micro-structure Materials, MOE, Dep. of Physics, Tongji Univ., Shanghai 200092, CHN) ,  LI Wen-bin (Key Lab. of Advanced Micro-structure Materials, MOE, Dep. of Physics, Tongji Univ., Shanghai 200092, CHN) ,  ZHU Jing-tao (Key Lab. of Advanced Micro-structure Materials, MOE, Dep. of Physics, Tongji Univ., Shanghai 200092, CHN) ,  ZHANG Zhong (Key Lab. of Advanced Micro-structure Materials, MOE, Dep. of Physics, Tongji Univ., Shanghai 200092, CHN) ,  WANG Zhan-shan (Key Lab. of Advanced Micro-structure Materials, MOE, Dep. of Physics, Tongji Univ., Shanghai 200092, CHN) ,  CHEN Ling-yan (Key Lab. of Advanced Micro-structure Materials, MOE, Dep. of Physics, Tongji Univ., Shanghai 200092, CHN)
資料名： Optik  (Optik)
巻： 123  号： 24  ページ： 2222-2225  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： D0251A  ISSN： 0030-4026  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 垂直入射のチャープMo/Si多層膜反射鏡において,群遅延分散(GDD)が-3600as²の場合,3-17nmの波長領域で,設計法を詳細に検討した。12.8-17.2nmの波長領域で被覆材料の光学定数をフィッティング法で解析して,GDDを計算した。シンプレックスアルゴリズムにより,ランダム発生器で発生させた構造に基づいて,遺伝的アルゴリズムで得られた初期構造から,チャープ反射鏡の最終構造を得た。界面粗度と層厚みの偏差を検討した後,反射率とGDDに及ぼす効果を検討した。平均反射率が5.98%から4.22%に減少し,平均GDDが-3561.86as²から-3462.03as²まで減少し,GDDの振動は反射率の振動に比べて大きいことが判明した。反射率は第9層の影響を非常に受けたが,GDDは各層厚が±0.2nmを変化する場合に第25層の影響を非常に受けた。反射率は,GDDと比較して,層厚誤差の影響を非常に受けた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 遺伝的アルゴリズム ,  近似法 ,  保護膜 ,  半導体プロセス ,  被覆材 ,  チャープ ,  光学定数 ,  極端紫外線 ,  紫外線 ,  多層膜 ,  *光学設計 ,  モリブデン ,  ケイ素 ,  *反射鏡
準シソーラス用語： フィッティング【近似法】 ,  設計法 ,  被覆材料

分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (8件)： 紫外領域 ,  SiC ,  キャップ層 ,  チャープ ,  Mo ,  Si ,  多層膜反射鏡 ,  設計