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J-GLOBAL ID：201202231686290076   整理番号：12A1103083

パルスレーザ蒸着によるCN_x膜の形成における窒素の役割

Role of Nitrogen in the Formation of CN_x Films by Pulsed Laser Deposition

著者 (3件)： WANG Zhiping (Univ. Toyama, Toyama, JPN) ,  ITO Hiroaki (Univ. Toyama, Toyama, JPN) ,  MASUGATA Katsumi (Univ. Toyama, Toyama, JPN)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 40  号： 7,Pt.1  ページ： 1815-1819  発行年： 2012年07月 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素(N₂)雰囲気中でパルスレーザ蒸着(PLD)により蒸着した窒化炭素(CN_x)膜の様々な特性について調べた。膜は室温,真空から様々なN₂圧力下で調製した。N₂圧力が上昇すると,窒素濃度(C_N)は急激に高くなり,10Pa以上で飽和した値に達した。Raman分光法の結果から,N₂圧力が高くなると,D/G比が大きくなり,これが炭素膜のグラファイト化に寄与することが分った。炭素膜に窒素を添加すると,光透過率が高くなった。ヘテロ極性結合の形成とCN_x試料の高い多孔性が原因となった電子局在が,光透過率の高くなる理由と推測した。

シソーラス用語： 炭素化合物 ,  窒化物 ,  レーザ蒸着 ,  蒸着膜 ,  化学量論 ,  *Ramanスペクトル ,  黒鉛化 ,  透過率 ,  多孔性 ,  窒素 ,  圧力効果 ,  局在状態 ,  *パルスレーザ蒸着 ,  *窒化炭素 ,  *光透過率

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (3件)： パルスレーザ蒸着 ,  窒素 ,  役割