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J-GLOBAL ID：201202232352902743   整理番号：12A0963477

電子ビーム放射によってカチオン的にキュアーしたビスフェノールAのジグリシジルエーテルの熱-機械的特性と構造的特徴

Thermo-mechanical properties and structural features of diglycidyl ether of BIS phenol a cationically cured by electron beam radiation

著者 (3件)： RANOUX Guillaume (Univ. de Reims Champagne-Ardenne, CNRS UMR 6229, Inst. de Chimie Moleculaire de Reims, BP 1039, 51687 Reims Cedex 2, FRA) ,  MOLINARI Michael (Lab. de Microscopies et d’Etude de Nanostructures, LMEN EA3799, 21 rue Clement Ader, 51685 Reims Cedex 2, FRA) ,  COQUERET Xavier (Univ. de Reims Champagne-Ardenne, CNRS UMR 6229, Inst. de Chimie Moleculaire de Reims, BP 1039, 51687 Reims Cedex 2, FRA)
資料名： Radiation Physics and Chemistry  (Radiation Physics and Chemistry)
巻： 81  号： 9  ページ： 1297-1302  発行年： 2012年09月 
JST資料番号： D0627A  ISSN： 0969-806X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子ビーム(EB)放射によってカチオン的にキュアーしたビスフェノールAのジグリシジルエーテルの熱-機械的特性と構造的特徴を,FT-NIR分光法,動的機械分析(DMA),MTDSC,およびAFMによって研究した。ガラス転移温度(T_g)への処方(オニウム塩の性質と含有量,添加物の存在),そしてEB処理パラメータ(線量,熱処理)の影響を研究した。最終T_g値の制御とともに高レベルの変換を達成するための条件を決定した。DSCとDMA分析によって観察したいくつかの緩和ピークの存在は形成されたネットワーク中の不均一性の存在を示唆した。AFM分析は形成されたネットワーク中の架橋密度の局所変化と解釈されるナノクラスタの存在を明らかにした。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： カチオン ,  硬化 ,  熱特性 ,  機械的性質 ,  構造特性 ,  Fourier分光法 ,  近赤外分光分析 ,  動的機械分析 ,  原子間力顕微鏡 ,  ガラス転移点 ,  オニウム化合物 ,  含有量 ,  添加剤 ,  照射線量 ,  熱処理 ,  ネットワーク ,  不均一性 ,  架橋度 ,  ナノクラスタ ,  *電子照射 ,  示差走査熱量測定 ,  *フェノール類 ,  分子構造
準シソーラス用語： FTNIR分光法 ,  キュアリング ,  架橋密度 ,  添加物

分類 (4件)： 電子・陽電子との相互作用一般  (BK16051U) ,  放射線による構造と物性の変化一般  (BK16121W) ,  芳香族単環フェノール類・多価フェノール  (CF05090V) ,  放射線化学一般  (CB09010B)

物質索引 (1件)： ビスフェノールAジグリシジルエーテル

タイトルに関連する用語 (7件)： 電子ビーム ,  放射 ,  カチオン ,  ビスフェノールA ,  ジグリシジルエーテル ,  機械的特性 ,  構造的特徴