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J-GLOBAL ID：201202232764165107   整理番号：12A1429710

開発サイクルアプリケーションのCD-SEMロバスト計測アルゴリズムを構築する方法論

Methodology for Establishing CD-SEM Robust Metrology Algorithm for Development Cycles Applications

著者 (8件)： HITOMI Keiichiro (Hitachi America, Ltd., NY, USA) ,  LAVIGNE Erin (IBM Systems and Technol. Group at Albany Nanotech, NY, USA) ,  HOTTA Shoji (Hitachi America, Ltd., NY, USA) ,  MOMONOI Yoshinori (Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN) ,  COLBURN Matthew (IBM Res. Div. at Albany Nanotech, NY, USA) ,  YAMAGUCHI Atsuko (Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN) ,  SASADA Katsuhiro (Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki, JPN) ,  MAEDA Tatsuya (Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8324  号： Pt.1  ページ： 83241G.1-83241G.8  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最先端リソグラフィプロセスに適用可能なフォトレジスト収縮の新しい測定技術を紹介した。次に,限界寸法走査電子顕微鏡(CD-SEM)測定パラメータの最適化方法論をTaguchi法により検討した。最後に,二次基準計測技術の有効性を検討した。ピッチ分割二重パターンニングプロセスにより作製したフォトレジストパターンの収縮は従来の方法と,ポストエッチングパターンを用いる新しい方法で測定された。新しい方法は~32nmの小さなフォトレジスト機能の正確な収縮を捕えた。

シソーラス用語： 計測 ,  アルゴリズム ,  走査電子顕微鏡 ,  方法論 ,  *フォトレジスト ,  *リソグラフィー ,  収縮 ,  最適化 ,  *パターン形成
準シソーラス用語： ロバスト計測 ,  限界寸法走査電子顕微鏡

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 開発 ,  サイクル ,  アプリケーション ,  CD-SEM ,  ロバスト ,  計測 ,  アルゴリズム ,  構築