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J-GLOBAL ID：201202233102953713   整理番号：12A0589565

高温真空レーザ顕微鏡によるSiC溶液成長に向けたSi-Cr系フラックス薄膜の熱挙動観察

著者 (4件)： 小沼碧海 (東京工大 応用セラミックス研) ,  丸山伸伍 (東京工大 応用セラミックス研) ,  松本祐司 (東京工大 応用セラミックス研) ,  松本祐司 (FUPET)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 59th  ページ： ROMBUNNO.17P-A8-6  発行年： 2012年02月29日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *炭化ケイ素 ,  溶液成長 ,  *光学顕微鏡 ,  フラックス法 ,  *熱特性
準シソーラス用語： レーザ顕微鏡

分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  非金属のその他の熱的性質  (BL05040J)

タイトルに関連する用語 (10件)： 真空 ,  レーザ顕微鏡 ,  SiC ,  溶液成長 ,  Si ,  Cr ,  フラックス ,  薄膜 ,  熱挙動 ,  観察