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J-GLOBAL ID:201202233114408281   整理番号:12A1206468

シリコン基板上のGe注入したSiO2層からの青色-UVルミネセンス

Blue-UV Luminescence from Ge-Implanted SiO2 Layer on Si Substrate
著者 (7件):
資料名:
巻: 14  ページ: 80-82  発行年: 2012年07月 
JST資料番号: L6689A  ISSN: 1345-0700  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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非常に低い電圧で作動する青色-UV領域の光源を作製するために,Geを浅く注入したSiO2層からのルミネセンス特性を調べた。シリコン上の50nmのSiO2層にGeの負イオンを浅いところ(表面から数十nmまで)に注入した後,アニーリング処理を施した。この照射試料の光ルミネセンス(PL)およびエレクトロルミネセンス(EL)特性を測定した。290nmと390nmにPLピークを観測した。透明なITO電極を使ったEL測定では,AC20Vの低電圧で390nmにピーク強度を観測した。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (1件):
分類
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無機化合物のルミネセンス 

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