抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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めっき法による磁気記録材料の形成及び,軟磁性材料の形成に関するトピックスを紹介した。電気めっきを用いた磁気記録材料の形成については,HDD面内記録用磁化膜の研究が1950年代初頭から始められ,1981年にめっき磁性膜を記録層にしたNTTのPATTYの実用化までの経緯を紹介した。垂直記録方式のHDD用磁気ディスク全般の成膜には,現在,スパッタリング法が用いられている。垂直記録磁化膜(BPM)の加工には共にリソグラフィー技術とインプリント法が多用されている。実用化の課題はディスク全面にわたるシングルナノレベル加工に対するコスト削減と生産性向上である。2000年にIBMのSunらが提案して以来,化学合成法による粒径数ナノメートルの磁性粒子を用いた1粒子1記録ビット型BPM作製の試みが注目されており,筆者らもこの方法を発展させたFePt粒子表面に露出した金属種と選択的に結合する有機分子種を用いる方法を検討している。オクタデシルトリメトキシシランを用いて作製し,20nm程度のパターンを摩擦力顕微鏡で確認した。めっき法による軟磁性材料の形成では,1979年にIBMのRomankiwらにより,Fe-Ni合金めっき(いわゆるパーマロイめっき)が実用化され,HDDの薄膜磁気ヘッド磁性材料から本格的に使われ始めた。