文献

J-GLOBAL ID：201202234306918271   整理番号：12A1727994

水蒸気プラズマによるチタン薄膜の酸化と同時水素化

Oxidation of thin Ti films and its simultaneous hydrogenation by water vapor plasma

著者 (5件)： PRANEVICIUS Liudas (Dep. of Physics, Vytautas Magnus Univ., Kaunas, LTU) ,  TUCKUTE Simona (Dep. of Physics, Vytautas Magnus Univ., Kaunas, LTU) ,  TUCKUTE Simona (Centre for Hydrogen Energy Technologies, Lithuanian Energy Inst., Kaunas, LTU) ,  GEDVILAS Karolis (Dep. of Physics, Vytautas Magnus Univ., Kaunas, LTU) ,  MILCIUS Darius (Centre for Hydrogen Energy Technologies, Lithuanian Energy Inst., Kaunas, LTU)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 524  ページ： 133-136  発行年： 2012年12月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マグネトロンスパッタ蒸着法で堆積させた厚みが0.4~0.6μmのTi膜の酸化と同時水素化のための低圧水蒸気プラズマの利用を,室温におけるプラズマ曝露時間とプラズマ中の散逸パワーの関数として調べた。約100nmの厚みの上部層が水素化TiO₂である二層膜を5分間の処理時間で形成した。処理時間が長くなると,膜の酸化状態が徐々に増加し,200Wで60分後に水素化ナノ結晶Ti₃O₅に完全に変態した。高い移動度故に,高速のHトランジェントは酸素拡散増大の原因になり得ると結論した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： プラズマ ,  *金属薄膜 ,  *チタン ,  水素化 ,  *酸化 ,  マグネトロンスパッタリング ,  薄膜成長 ,  *プラズマ曝露 ,  酸化チタン
準シソーラス用語： *チタン薄膜 ,  水蒸気プラズマ

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 水蒸気プラズマ ,  チタン薄膜 ,  酸化 ,  水素化