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J-GLOBAL ID:201202234444625161   整理番号:12A0950373

Co-W皮膜のナノ構造への電着条件とポスト焼なましの影響

The effect of electrodeposition conditions and post-annealing on nanostructure of Co-W coatings
著者 (6件):
資料名:
巻: 206  号: 19-20  ページ: 4262-4269  発行年: 2012年05月25日 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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pH6.7と8.0でクエン酸塩-ホウ酸塩電解質から60°Cでナノ結晶質のCo-W合金を電着した。直流(DC)電流モードとパルス(PC)電流モードでの電着条件の合金中のタングステン量とそれらの構造への影響を調査した。合金中のタングステン量は13と36at%の間で変動し,合金中のその特定含有量を得るための析出モードや電流密度に関係なく,これがCo-W皮膜の粒径を決定した。タングステンの含有量が低いときは27~40nmの粒径が得られ,23at%W以上を含んでいる析出した皮膜では3~6nmが特徴的であった。CoとCo3W相におけるW固溶体の生成について議論した。3~6nmの析出粒径を持つCo-W皮膜では焼なまし後にナノ結晶質から多結晶構造への移行が発生した。24.5at%Wを含む皮膜では{200},{201}および{220}のテキスチャーのCo3Wのよく発達した多結晶構造が400°Cで現れ,1000°Cまで安定した状態を保った。24.5at%Wを含む皮膜の粒径は400°Cの焼なまし後には3~5nmから26~30nmまで増加した。ところが,34.4at%のタングステン量のCo-W皮膜は400°Cでナノ結晶性を維持し,45nmまでの粒径の増加を伴って600°Cで多結晶構造へ移行した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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電気めっき  ,  熱処理技術  ,  変態組織,加工組織 
タイトルに関連する用語 (5件):
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