文献
J-GLOBAL ID:201202234495559384   整理番号:12A0895083

La2-xSrxCuO4中のドーピングの関数としての面内Cu-O結合分布と電荷不均一性

In-plane Cu-O bond distribution and charge inhomogeneity in La2-xSrxCuO4 as a function of doping
著者 (6件):
資料名:
巻: 111  号: 11  ページ: 112622-112622-4  発行年: 2012年06月01日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
偏光Cu K端拡張X線吸収微細構造から求めたLa2-xSrxCuO4中のドーピングの関数としての面内CuO原子変位について報告する。Cu-O結合分布は広く,低いドーピングでは非対称の単一ピークであったものが,過小ドープおよび適性ドープでは二つのピークに変わり,過剰ドープでは単一ピークになった。この結果は,ストライプを含んだ超伝導相中での最適転移温度に対する臨界格子ゆらぎの直接の証拠を与える。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物系超伝導体の物性 

前のページに戻る