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J-GLOBAL ID:201202235036334724   整理番号:12A1290875

マテリアルはじめの一歩 マテリアルを上手に使うために必要なこと 第11回 全応力マッチングによる多層膜設計

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資料名:
巻: 12  号:ページ: 66-67  発行年: 2012年06月10日 
JST資料番号: L5969A  ISSN: 1346-3926  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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多層膜は各種コーティングに使用されているが,熱歪による応力が発生し,剥離やひび割れの原因となる。多層膜を形成する場合の応力マッチング制御について解説した。薄膜内の歪発生原因は,1)熱プロセスによる体積収縮,及び2)基板との熱膨張係数の差が考えられる。熱応力式を示し,膜厚の異なる多層膜の歪を緩和するには,各層の膜厚を制御すること,すなわち全応力マッチングで可能になると述べた。具体例として,有機膜(フォトレジスト)・無機膜(ガラス)・金属膜(Al,Cu)の多層膜の解析結果を示し,多層膜では全応力を用いた多層膜設計が有効であることを明らかにした。
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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薄膜一般 
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