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J-GLOBAL ID：201202235525827385   整理番号：12A0667823

水系薄膜技術による光学薄膜の形成-ウェットプロセスによる低環境負荷ナノコーティング-

Formation of optical thin film by Water Based Thin Film Process-(Eco friendly nanocoating by wet process)-

著者 (2件)： 白鳥世明 (慶応大 理工) ,  藤本幸司 (慶応大 理工)
資料名： 映像情報メディア学会技術報告
巻： 36  号： 11(IDY2012 11-16)  ページ： 1-8  発行年： 2012年02月24日 
JST資料番号： S0209A  ISSN： 1342-6893  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 真空プロセスを用いずに水系でしかも常温,常圧で製膜できるウェットプロセスとして交互吸着法,スプレー交互吸着法があり,近年研究が活発化している。なかでも,ディスプレイ,光学部材に適応される光学薄膜は,高真空を有するドライプロセスから,より簡易的なウェットプロセスによる光学薄膜が期待される。本研究では,交互吸着法により全水系プロセスで膜厚および屈折率をナノスケールオーダーで制御した光学薄膜を報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *薄膜 ,  工程 ,  乾式法 ,  *吸着 ,  規模 ,  被覆 ,  ナノ構造 ,  屈折率 ,  制御
準シソーラス用語： ウェットプロセス ,  ドライプロセス ,  ナノコーティング ,  ナノスケール ,  *交互吸着 ,  *光学薄膜 ,  水系 ,  機能制御

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  各種物理的手法  (CC01030W)

タイトルに関連する用語 (6件)： 水系 ,  薄膜技術 ,  光学薄膜 ,  ウェットプロセス ,  環境負荷 ,  ナノコーティング