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J-GLOBAL ID：201202236287851864   整理番号：12A1160919

自己組織化単分子膜の蒸着:酸化シリコン基板上の揮発性シランのビニル終端膜

A vapor phase deposition of self-assembled monolayers: Vinyl-terminated films of volatile silanes on silicon oxide substrates

著者 (4件)： ADAMKIEWICZ Malgorzata (EaStChem School of Chemistry, Univ. of St Andrews, North Haugh, St Andrews KY16 9ST, GBR) ,  O’HARA Tony (MEMSStar Technol., Scottish Microelectronics Centre, West Mains Road, Edinburgh EH9 3JF, GBR) ,  O’HAGAN David (EaStChem School of Chemistry, Univ. of St Andrews, North Haugh, St Andrews KY16 9ST, GBR) ,  HAEHNER Georg (EaStChem School of Chemistry, Univ. of St Andrews, North Haugh, St Andrews KY16 9ST, GBR)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 520  号： 22  ページ： 6719-6723  発行年： 2012年09月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ビニル終端された自己組織化単分子膜(SAM)は,さらなる化学修飾ための顕著な柔軟性を提供し,表面特性の調整のための汎用的な出発点として機能する。例えば,微小電気機械システムのようなシリコン微細構造による接続におけるように,溶液からの作製が選択枝に入ってない場合,もしくは好ましくない場合には,SAMの蒸気相堆積は利点がある。9-デセニルトリクロロシラン(CH₂ CH(CH₂)₈ SiCl₃),10-ウンデセニルトリクロロシラン(CH₂ CH(CH₂)₉ SiCl₃),14-ペンタデセニルトリクロロシラン(CH₂ CH(CH₂)₁₃ SiCl₃),デシルトリクロロシラン(CH₃ (CH₂)₉ SiCl₃),およびオクタデカントリクロロシラン(CH₃ (CH₂)₁₇ SiCl₃)のSAMが,溶液および蒸気相の両方から作製可能なことを示した。作製した膜を表面濡れ性,膜厚,個々の膜の滑らかさと一様性,および化学的組成を決定するために,静的接触角測定,偏光解析法,X線光電子分光,および原子間力顕微鏡を用いて比較検討した。その結果,各々方法が同程度の品質を与えることがわかった。蒸気相からの機能化SAMの堆積は希である。ここでは,蒸気相から良好に秩序化したビニル終端SAMの作製するためのパラメータについて報告した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 自己組織化 ,  気相成長 ,  基板 ,  酸化ケイ素 ,  *化学修飾 ,  *単分子層 ,  *シラン誘導体 ,  *濡れ ,  膜厚 ,  平滑度 ,  化学組成 ,  原子間力顕微鏡 ,  X線光電子スペクトル ,  偏光解析法 ,  *ビニル基 ,  *成端 ,  溶液成長 ,  薄膜成長

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (4件)： デシルトリクロロシラン ,  トリクロロ(9-デセニル)シラン ,  トリクロロ(14-ペンタデセニル)シラン ,  トリクロロ(オクタデシル)シラン

タイトルに関連する用語 (7件)： 自己組織化単分子膜 ,  蒸着 ,  酸化 ,  シリコン基板 ,  揮発性 ,  シラン ,  終端