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J-GLOBAL ID：201202236293562734   整理番号：12A0779932

ポリシリコン膜のゼロ張力繰返し応力試験における疲れ亀裂拡大プロセスの同定

IDENTIFICATION OF FATIGUE CRACK EXTENSION PROCESS IN ZERO-TENSION CYCLIC STRESS TEST OF POLYSILICON FILMS

著者 (4件)： HUY Vu Le (Nagoya Inst. Technol., JPN) ,  KAMIYA Shoji (Nagoya Inst. Technol., JPN) ,  GASPAR Joao (International Iberian Nanotechnology Lab., PRT) ,  PAUL Oliver (Univ. Freiburg, DEU)
資料名： Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems  (Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems)
巻： 25th Vol.1  ページ： 440-443  発行年： 2012年 
JST資料番号： W0377A  ISSN： 1084-6999  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 疲れ寿命は,MEMS構造の長期信頼性にとって深刻な関心事の一つである。本報では,切欠き付きポリシリコン膜試料の,ゼロ張力繰返し応力試験における,疲れ亀裂拡大プロセスを明らかにした。走査電子顕微鏡観察の破面において,初期の亀裂とそれらの疲れ現象による拡大の痕跡を発見した。そして,静的および疲れ試験データから評価したパラメータに基づいて,Parisの法則を用いることにより,疲れ亀裂拡大プロセスに関する詳細な定量的解析を行なった。観察および推定による亀裂長さは,互いに一致している。これらの結果は,疲れ亀裂が酸化層の厚みよりもはるかに長く,したがって,亀裂の拡大がポリシリコン膜のケイ素自身の中に及ぶことを示唆している。

シソーラス用語： *ポリシリコン ,  *繰返し応力 ,  *疲れ亀裂 ,  *MEMS ,  *疲れ試験 ,  *疲れ寿命 ,  ケイ素 ,  有機ケイ素化合物
準シソーラス用語： 繰返し応力試験 ,  疲れ亀裂拡大プロセス

分類 (2件)： 有機けい素化合物  (CF08030C) ,  疲れ一般  (HC05010H)

タイトルに関連する用語 (8件)： ポリシリコン膜 ,  張力 ,  繰返し応力 ,  試験 ,  疲れ亀裂 ,  拡大 ,  プロセス ,  同定