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J-GLOBAL ID：201202237435940517   整理番号：12A0684781

エポキシ化ペルフルオロポリエーテル:疎水性のネガティブ型ホトレジストへのルート

Epoxidized Perfluoropolyethers: A Route to Hydrophobic, Negative-Tone Photoresists

著者 (9件)： CHAFFINS Sterling (Hewlett-Packard Co., Oregon) ,  HINCH Garry (Hewlett-Packard Co., Oregon) ,  DEKAM Kevin (Hewlett-Packard Co., Oregon) ,  WATERHOUS Vince (Hewlett-Packard Co., Oregon) ,  SMITH Jim (Hewlett-Packard Co., Oregon) ,  OVERBAY Milo (Hewlett-Packard Co., Oregon) ,  BILICH Dan (Hewlett-Packard Co., Oregon) ,  HOVERMALE Chris (Hewlett-Packard Co., Oregon) ,  JONES John (Hewlett-Packard Co., Oregon)
資料名： Journal of Applied Polymer Science  (Journal of Applied Polymer Science)
巻： 124  号： 6  ページ： 4636-4644  発行年： 2012年06月15日 
JST資料番号： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エピクロロヒドリンを用いて,両末端にエポキシ基を導入したペルフルオロポリエーテル(eFLKD)を合成した。eFLKDは疎水性膜を形成し,光照射によって硬化することでネガティブ型ホトレジストとして有用となる。光酸発生剤のトリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモナートを混合した系について,各種現像液の適用を検討し,フォトリソグラフィーとしての解像度の評価を実施した。レジスト素材のガラス転移点が重要因子であることにも言及した。

シソーラス用語： エポキシ化 ,  有機フッ素化合物 ,  *フッ素化重合体 ,  ポリエーテル ,  フォトレジスト ,  *レジスト ,  *エポキシ樹脂 ,  フォトリソグラフィー ,  ガラス転移点 ,  光酸発生剤 ,  *分解能 ,  現像液 ,  疎水性 ,  有機塩素化合物 ,  環状エーテル
準シソーラス用語： *ネガティブ型レジスト ,  解像度 ,  *ペルフルオロポリエーテル ,  ペルフルオロ化合物

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： エピクロロヒドリン

タイトルに関連する用語 (4件)： エポキシ化 ,  ペルフルオロポリエーテル ,  疎水性 ,  ホトレジスト