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J-GLOBAL ID:201202237439708139   整理番号:12A0670000

InGaN/GaN太陽電池の微細構造と性能に及ぼす量子井戸キャップ層厚の影響

Effect of quantum well cap layer thickness on the microstructure and performance of InGaN/GaN solar cells
著者 (12件):
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巻: 100  号: 16  ページ: 161101-161101-4  発行年: 2012年04月16日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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InxGa1-xN/GaN多重量子井戸太陽電池用の二段階GaN障壁成長法を開発した。本方法ではGaNキャップ層を量子井戸の上部に成長させた後,高温GaN障壁層を成長させる。低温GaNキャップ層厚を1.5nmから3.0nmへ厚くすることで太陽電池の性能が顕著に向上した。高角度環状暗視野透過型走査電子顕微鏡(STEM)と原子プローブトモグラフィー測定は,GaNキャップ層厚の増加が均一性向上させ量子井戸の平均インジウム含有量を増加させることを示した。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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太陽電池 

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